黔西南水厂纯水设备生产厂家 采用离子交换技术

我公司生产的，采用世界上的反渗透膜元件作预处理再配上EDI连续电除盐装置这是目前制取超纯水经济，环保的超纯水制备工艺，不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵.
我公司设计的EDI除盐设备系统采用成熟、可靠、、自动化程度高的二级反渗透+EDI+精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质确保处理后出水电阻率达到18.2 MΩNaN。EDI除盐设备系统关键设备及材料均采用国际主流可靠产品，采用PLC＋触摸屏控制，系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
我们公司生产EDI除盐设备系统，有多年的生产经验，尤其在电控系统PLC方面在水处理行业技术都是比较成熟，我们也有做过很多各行业的水处理设备，这方面我们有丰富的经验。我们公司做出来的EDI除盐设备系统质量比同行具有更大的优势，在国内具有一定的市场竟争力。该产品由于具备性能好、价格低于国外同类产品价格、供货及时、售后服务方便快捷等诸多优势。在太阳能光伏电池、单/多晶硅、非晶硅、电子与半导体、锅炉补给水、光电光学等企业的脱盐水和超纯水装置，得到了业界的广泛赞誉，欢迎广大客户前来参观考察我公司的厂房及EDI超纯水设备工程案例。

超纯水设备顾名思义主要应用在墨水生产中，为了保证墨水的纯度，提高墨水质量，需要使用电阻率在16兆欧以上的水进行配置，而超纯水设备采用的反渗透和EDI技术，设备的出水电阻率达到18兆欧以上，完全满足水。
超纯水设备
超纯水设备
二、超纯水设备典型工艺流程
1、预处理-反渗透-纯化水箱-离子交换器-紫外灯-纯水泵-用水点
2、预处理-一级反渗透-二级反渗透(正电荷反渗透膜)-纯化水箱-纯水泵-紫外灯-用水点
3、预处理-反渗透-中间水箱-中间水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外灯-用水点
4、预处理-紫外线杀菌装置-一级RO装置-二级RO装置-中间水箱-EDI装置-脱氧装置-氮封纯水箱-除TOCUV装置-抛光混床-超滤装置-用水点
超纯水设备图片
超纯水设备图片
三、超纯水设备特点
数字化液晶水质显示，全自动化制水，停水或水压不够，系统自动断电保护同时视听报警，多重安全保护。
微电脑智能控制系统，RO膜防垢程序及完善的自动清洗消毒程序。
全自动化无人值守设计：缺水停水时系统自动停机保护，水压恢复正常时系统自动恢复制水状态;纯水备用时系统自动停机，当取用一定纯水时系统自动恢复制水状态。
化指示：电源指示，系统自检指示，泵浦启动指示，RO自动冲洗指示，缺水保护指示，缺水报警指示，纯水备用指示。

水质：出水水质>15MΩ.cm
用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。  超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
    半导体（semiconductor），指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多，按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是常用的元素半导体；化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化镓、磷化镓等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化镉、硫化锌等；氧化物：锰、铬、铁、铜的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体：镓铝、镓磷等。除上述晶态半导体外，还有非晶态的玻璃半导体、有机半导体等。
光电材料生产、加工、清洗；液晶显示屏、离子显示屏、灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备，我们公司生产反渗透＋EDI超纯水设备，有多年的生产经验，做过各行业的水处理设备，水处理方面我们有丰富的经验。
半导体超纯水设备制备工艺：
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(传统工艺) 
  　 2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(工艺) 
　　3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥17MΩ.CM）(工艺) 
　　4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥15MΩ.CM）(工艺) 
　　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)
水质标准：
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备的应用领域：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗；　 超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水；
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液；
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片；
集成电路生产中高纯水清洗硅片；
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水；
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；
显像管、萤光粉生产；
汽车、家电表面抛光处理。

矿泉水设备使用范围
1.用于 RO 系统的前置处理：可以把源水中的浊度降到 1NTU 以下，完全去除水中的悬浮物、胶体、有机物和类物质，保证 RO 膜的稳定的产水量和脱盐率。
2.作为矿泉水设备、山泉水设备的主机部分：可以有效滤除矿泉水设备中的悬浮物、有机物、和大肠等有害物质，使矿泉水的透明度明显提高，而且保留了矿泉水中的对人体健康有益的各种矿物质。
3.家庭、单位和生活小区集团饮用净水：对自来水进行二次处理，不仅去除了水中大量的悬浮物、胶体和微粒，使自来水变得干净、清沏透明，而且也除去了有机物、和大肠等致病的物质，使自来水变成干净卫生的直饮水。
工艺流程
原水箱→反洗增压泵→机械过滤器→活性碳过滤器→1μm精滤→超滤→臭氧→净水箱
设备用途
◎饮料、饮用水的制备
◎矿泉水的澄清除菌
◎生活用水的处理
◎医药各级用水的处理
◎大型水处理设备的前处理
◎电子行业超纯水的终端处理
◎工业废水处理及有用物质的回收
技术参数：
◎型号：LTLD
◎产水量：6-10吨/小时（可根据用户要求而定）
◎截流分子量：1000－1000000MW
◎工作温度：≤45℃
◎工作压力：0.2－0.3Mpa
特点：
臭氧发生器：
采用国外技术，国内产品。
单元产量高，能耗低。
运行可靠，整体组合装配。
臭氧膜氧化塔：
采用进口填料，塔高降低1/3。
臭氧利用率和氧化效果优于高塔。
精滤器：
介质采用聚膜，抗氧化、耐腐蚀、抗生化、性使用。
体积小，过滤面积大。
可以过滤高价离子，避免水中出现沉淀。
组合式矿泉水水处理设备：
占地面积减少2/3。
完成了出厂前的所有水处理管件配置。
http://www.gzxfyhjkj.com